Nano an der TU München | Karteikarten & Zusammenfassungen

Lernmaterialien für Nano an der TU München

Greife auf kostenlose Karteikarten, Zusammenfassungen, Übungsaufgaben und Altklausuren für deinen Nano Kurs an der TU München zu.

TESTE DEIN WISSEN
Shortcut: OL
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
Optical Lithography
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
How can you prevent stamp damage while using NIL?
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
Imprint depth has to be slightly less than polymer thickness.
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
Name a way of Nanoscale pattern transfer!
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
Wet and Dry Chemical Etching
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
Which Photon Sources do you know (topic Illumination with Shorther Wavelengths)?
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
- Excimer Lasers (DUV, 193 nm, DUV: Deep Ultra Violet) - Excimer Lasers (DUV, 157 nm, DUV: Deep Ultra Violet) - EUV (13nm, Extreme Ultra Violet, or XUV) - X-ray (<1nm)
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
Excimer Lasers (DUV, 193 nm)
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
- high photon energy - short wavelength
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
Issues with DUV (at 157 nm)
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
- optical lens material (CaF...birefringence effects: Doppelbrechungs-Effekte) - transparent mask pellicles (Häutchen) - proper photoresists (lichtundurchlässiger Platinenlack) ... due to high absorption in UV!!!
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
Vocab: Immersion lithography
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
Immersionslithograpie, Immersion: Eintauchen, Lithography: Litographie/ (Stein-)Druckverfahren
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
EUV (13 nm) and X-ray (<1 nm)
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
- no conventional refractive optics (lichtbrechende Optik) --> reflective optics (mirrors) --> proximity gap (1:1) lithography - mask needs absorber layer (Al, Cr, ..) -prone to defects and image errors (prone: geneigt) - extremely expensive
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
Name issues for Immersion lithography
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
maintain bubble-free liquid between lens and wafer ((Silizium)-Scheibe) by fast moving stage
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
Relevant historic steps in immersion lithography?
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
- major breakthrough in 45-nm node technology (2007) - Development of high-index fluids (1.8-2) --> sub-32 nm node technology?
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
Near-field Optical Lithography (NFOL)
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
- Light propagates as evanescent wave with exponential decay in resist - mask in direct contact OR proximity gap with resist - Penetration (Eindringtiefe) of light only 40 nm of resist (Leiterplattenschutzschicht) - Large field enhancement at edges of metal mask pattern - Local E-field intensity > |E0|^2 ...surface plasmon polariton (SPP)!!
Lösung ausblenden
TESTE DEIN WISSEN
Name one way of Nanofabrication by replication!
Lösung anzeigen
TESTE DEIN WISSEN
Nanoimprint Lithography
Lösung ausblenden
  • 345627 Karteikarten
  • 7841 Studierende
  • 334 Lernmaterialien

Beispielhafte Karteikarten für deinen Nano Kurs an der TU München - von Kommilitonen auf StudySmarter erstellt!

Q:
Shortcut: OL
A:
Optical Lithography
Q:
How can you prevent stamp damage while using NIL?
A:
Imprint depth has to be slightly less than polymer thickness.
Q:
Name a way of Nanoscale pattern transfer!
A:
Wet and Dry Chemical Etching
Q:
Which Photon Sources do you know (topic Illumination with Shorther Wavelengths)?
A:
- Excimer Lasers (DUV, 193 nm, DUV: Deep Ultra Violet) - Excimer Lasers (DUV, 157 nm, DUV: Deep Ultra Violet) - EUV (13nm, Extreme Ultra Violet, or XUV) - X-ray (<1nm)
Q:
Excimer Lasers (DUV, 193 nm)
A:
- high photon energy - short wavelength
Mehr Karteikarten anzeigen
Q:
Issues with DUV (at 157 nm)
A:
- optical lens material (CaF...birefringence effects: Doppelbrechungs-Effekte) - transparent mask pellicles (Häutchen) - proper photoresists (lichtundurchlässiger Platinenlack) ... due to high absorption in UV!!!
Q:
Vocab: Immersion lithography
A:
Immersionslithograpie, Immersion: Eintauchen, Lithography: Litographie/ (Stein-)Druckverfahren
Q:
EUV (13 nm) and X-ray (<1 nm)
A:
- no conventional refractive optics (lichtbrechende Optik) --> reflective optics (mirrors) --> proximity gap (1:1) lithography - mask needs absorber layer (Al, Cr, ..) -prone to defects and image errors (prone: geneigt) - extremely expensive
Q:
Name issues for Immersion lithography
A:
maintain bubble-free liquid between lens and wafer ((Silizium)-Scheibe) by fast moving stage
Q:
Relevant historic steps in immersion lithography?
A:
- major breakthrough in 45-nm node technology (2007) - Development of high-index fluids (1.8-2) --> sub-32 nm node technology?
Q:
Near-field Optical Lithography (NFOL)
A:
- Light propagates as evanescent wave with exponential decay in resist - mask in direct contact OR proximity gap with resist - Penetration (Eindringtiefe) of light only 40 nm of resist (Leiterplattenschutzschicht) - Large field enhancement at edges of metal mask pattern - Local E-field intensity > |E0|^2 ...surface plasmon polariton (SPP)!!
Q:
Name one way of Nanofabrication by replication!
A:
Nanoimprint Lithography
Nano

Erstelle und finde Lernmaterialien auf StudySmarter.

Greife kostenlos auf tausende geteilte Karteikarten, Zusammenfassungen, Altklausuren und mehr zu.

Jetzt loslegen

Das sind die beliebtesten Nano Kurse im gesamten StudySmarter Universum

Nagy

Johannes Kepler Universität Linz

Zum Kurs
Nanochemie 2

Universität Hamburg

Zum Kurs
NaGe2

ZHAW - Zürcher Hochschule für Angewandte Wissenschaften

Zum Kurs

Die all-in-one Lernapp für Studierende

Greife auf Millionen geteilter Lernmaterialien der StudySmarter Community zu
Kostenlos anmelden Nano
Erstelle Karteikarten und Zusammenfassungen mit den StudySmarter Tools
Kostenlos loslegen Nano