Nano an der TU München

CitySTADT: Augsburg

CountryLAND: Deutschland

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Beispielhafte Karteikarten für Nano an der TU München auf StudySmarter:

Issues with DUV (at 157 nm)

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Near-field Optical Lithography (NFOL)

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Name one way of Nanofabrication by replication!

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Which Photon Sources do you know (topic Illumination with Shorther Wavelengths)?

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Name issues for Immersion lithography

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Relevant historic steps in immersion lithography?

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vocab: dose

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Which kinds of Nanofabrication by scanning probes do you know?

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Name a way of Nanoscale pattern transfer!

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Shortcut: OL

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EUV (13 nm) and X-ray (<1 nm)

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Advantages and Disadvantages of Interferometric Optical Lithography and Laser Direct Write:

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Nano

Issues with DUV (at 157 nm)
– optical lens material (CaF…birefringence effects: Doppelbrechungs-Effekte)
– transparent mask pellicles (Häutchen)
– proper photoresists (lichtundurchlässiger Platinenlack)
… due to high absorption in UV!!!

Nano

Near-field Optical Lithography (NFOL)
– Light propagates as evanescent wave with exponential decay in resist
– mask in direct contact OR proximity gap with resist
– Penetration (Eindringtiefe) of light only 40 nm of resist (Leiterplattenschutzschicht)
– Large field enhancement at edges of metal mask pattern
– Local E-field intensity > |E0|^2
…surface plasmon polariton (SPP)!!

Nano

Name one way of Nanofabrication by replication!
Nanoimprint Lithography

Nano

Which Photon Sources do you know (topic Illumination with Shorther Wavelengths)?
– Excimer Lasers (DUV, 193 nm, DUV: Deep Ultra Violet)
– Excimer Lasers (DUV, 157 nm, DUV: Deep Ultra Violet)
– EUV (13nm, Extreme Ultra Violet, or XUV)
– X-ray (<1nm)

Nano

Name issues for Immersion lithography
maintain bubble-free liquid between lens and wafer ((Silizium)-Scheibe) by fast moving stage

Nano

Relevant historic steps in immersion lithography?
– major breakthrough in 45-nm node technology (2007)
– Development of high-index fluids (1.8-2)
–> sub-32 nm node technology?

Nano

vocab: dose
amount of ionizing radiation absorbed

Nano

Which kinds of Nanofabrication by scanning probes do you know?
– STM-based resist exposure (Belichtung)
– Local Oxidation lithography
– Additive und Subtractive Nanofabrication

Nano

Name a way of Nanoscale pattern transfer!
Wet and Dry Chemical Etching

Nano

Shortcut: OL
Optical Lithography

Nano

EUV (13 nm) and X-ray (<1 nm)
– no conventional refractive optics (lichtbrechende Optik)
–> reflective optics (mirrors)
–> proximity gap (1:1) lithography
– mask needs absorber layer (Al, Cr, ..)
-prone to defects and image errors (prone: geneigt)
– extremely expensive

Nano

Advantages and Disadvantages of Interferometric Optical Lithography and Laser Direct Write:
Adavantages:
– simplicity
– lithography w/o mask!
Disadvantages:
– straight lines or periodic dots (no complex pattern)
Gradient

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